【BALLUFF BOS00N2】
发布时间：2018-11-09 17:26:31点击率：
0
所属行业：五金原材料-> 废金属-> 废镍
价格：￥66
规格：BALLUFF BOS00N2
供货总量：55
BALLUFFBOS00N2 GlobalFoundries、英特尔、三星和台积电希望将EUV光刻技术加入到7nm和5nm生产中。但就像以前一样，EUV由几部分组件组成，在芯片制造商能够引入之前，它们必须整合在一起。包括光刻机、光源、光刻胶和掩膜。近，行业已经开始发布关于量子随机效应的警报，这种现象会引起光刻图案随机变化。 有些组件已经准备就绪，而有些则发展缓慢。事实上，EUV团队将光刻胶及其相关问题列为EUV的大挑战，超过了电源。经过多年的推迟，EUV光源功率终于满足了大批量生产（HVM）的要求。 光刻胶是用来制作图案的光敏聚合物，它是造成随机性效应的罪魁祸首之一。根据定义，随机效应描述了具有光量子随机变化的事件。它们是不可预测的，没有稳定的模式。 在EUV的情况下，光子击中光刻胶并引起光化学反应。但是对于EUV光刻胶而言，由于量子非定域效应，每个或多个反应期间可能出现新的不同的反应。因此EUV容易发生涉及随机效应。一般来说，该行业将随机性主要归咎于光刻胶，但EUV的光掩膜和其他部分(EUV光子平均自由程较大)也可能会出现随机变量。 BALLUFFBOS00N2 随机效应并不新鲜。事实上，这一现象多年来一直困扰着EUV团队。众所周知，随机效应会导致光刻图案的变化。行业一直在努力解决这个问题，但人们要么低估了问题，要么没能及时解决问题，要么两者兼而有之。 新情况是，行业终于迎来了另一个问题。一颗先进的逻辑芯片集成了十亿个甚至更多的微小通孔。如果EUV光刻过程中出现问题，芯片可能会遭受由于随机效应引发的失效或缺陷(通孔缺失contactmissing)。换言之，一颗芯片可能会因为一个触点通孔的缺陷而失效。 这可能是一厢情愿的想法，但芯片制造商相信他们可以躲避7nm工艺节点潜在的由随机性引发的缺陷。事实上，EUV可能出现在7nm工艺节点。但在5nm甚至是7nm工艺节点的情况下，芯片制造商可能无法避免这些和其他问题，除非行业出现一些新的突破。GlobalFoundries研究员兼技术研究总监HarryLevinson表示：“公平地讲，我们的行业非常乐观地看待我们向EUV光刻前进的方向。我们正准备将代引入到大批量生产中，展望第二代EUV光刻技术，抵抗随机效应是重要的问题之一。” BALLUFFBOS00N2
返 回
免责声明：以上所展示的信息由企业自行提供，内容的真实性、准确性和合法性由发布企业负责，塑胶五金网对此不承担任何保证责任
